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X射線鍍層測(cè)厚儀測(cè)試原理
點(diǎn)擊次數(shù):2537 更新時(shí)間:2013-06-18

X射線鍍層測(cè)厚儀/X光鍍層測(cè)厚儀

檢測(cè)電子電鍍,化學(xué)鍍層厚度,如鍍金,鍍鎳,鍍銅,鍍鉻,鎳鋅,鍍銀,鍍鈀...
可測(cè)單層,雙層,多層,合金鍍層,
測(cè)量范圍:0.04-35um
測(cè)量精度:±5%,測(cè)量時(shí)間只需30秒便可準(zhǔn)確知道鍍層厚度
全自動(dòng)臺(tái)面,自動(dòng)雷射對(duì)焦,操作非常方便簡(jiǎn)單

X射線鍍層測(cè)厚儀的測(cè)量原理

物質(zhì)經(jīng)X射線或粒子射線照射后,由于吸收多余的能量而變成不穩(wěn)定的狀態(tài)。從不穩(wěn)定狀態(tài)要回到穩(wěn)定狀態(tài),此物質(zhì)必需將多余的能量釋放出來,而此時(shí)是以熒光或光的形態(tài)被釋放出來。熒光X射線鍍層厚度測(cè)量?jī)x或成分分析儀的原理就是測(cè)量這被釋放出來的熒光的能量及強(qiáng)度,來進(jìn)行定性和定量分析
應(yīng)用實(shí)例圖示

(1)單鍍層:Ag/xx

 

(2)合金鍍層:Sn-Pb/xx

 

(3)雙鍍層:Au/Ni/xx

Ag

 

Sn-Pb

 

Au

底材

 

底材

 

Ni

 

 

 

 

底材

 

 

 

 

 

(4)合金鍍層:Sn-Bi/xx

 

(5)三鍍層:Au/Pd/Ni/xx

 

(6)化學(xué)鍍層:Ni-P/xx

Sn-Bi

 

Au

 

Ni-P

底材

 

Pd

 

底材

 

 

Ni

 

 

 

 

底材

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